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氧化铁是历早使用的抛光材料，但它的抛-度慢，而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展，于二十世纪30年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次中，一个在伊利诺斯州罗克福德的wf和barnesj公司工作的雇员，于1943年提出了一种叫做巴林士粉barnesite的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光、-、污染小等优点，激起了美国等的群起研究。这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。






因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉包括稀土抛光粉大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。

　　主要指标：产品中wreo=99%,wceo2=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm或粒度为200目~300目，晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉。

　　1.4.2中系稀土抛光粉的制备

　　用混合稀土氢氧化物wreo=65%,wceo2***48%为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体沉淀剂使转化成wceo2=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：

　　原料***氧化***优溶***过滤***酸溶***沉淀***洗涤过滤***高温煅烧***细磨筛分***中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。

　中系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛-率提高35%,制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。

　　低系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光；797型和c-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；h-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外，其它抛光粉用于对光学仪器，-机和照像机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量，约占国内总用量85%以上。

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