。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳矿、粗氯化和氯化稀土三种，工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年，稀土抛光粉公司，我国在上海跃龙化工厂研制成功稀土抛光粉。

　氧化铁是历早使用的抛光材料，清远稀土抛光粉，但它的抛---度慢，而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展，于二十世纪30年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次中，一个在伊利诺斯州罗克福德的wf和barnesj公司工作的雇员，于1943年提出了一种叫做巴林士粉barnesite的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光、---、污染小等优点，激起了美国等的群起研究。这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。

稀土抛光粉的应用

　　由于系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，稀土抛光粉生产，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。

　　高系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。实践表明，该抛光粉的---良，抛光效果较好，由于价格较高，国内的使用量较少。

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